“荷兰光刻机没有想象中强大，我们的光刻机虽然还在努力但也不弱”

荷兰的光刻机没有想象中的那么强大[/s2/]。 我们的光刻机还在努力，但不弱。 我经常听说euv雕刻机在7纳米后会取代芯片生产的原duv光刻机。 前者没有工艺水平的限制，后者在最高工艺水平上只能达到7nm。 但是，目前只有荷兰的asml能够制造euv 光刻机！

但是，华为事情给我们敲响了警钟，中科院冲进光刻机械行业，要求布局克服相应的技术难题，新闻来源于国外媒体。 荷兰的阿斯莫尔慌了！ 你不是说荷兰的asml技术最好吗？ 怎么改变？ 事实上，荷兰的asml并不是很强！

荷兰的光刻机没有想象中那么强大。

首先，euv光刻已经存在很久了，但不是这几年的产物。 但是，euv 光刻当时还停留在实验室阶段，无法大规模进入工业应用，取代工厂！ 的关键是光刻厂提供的生产能力和性能不能满足芯片的生产要求。

例如，在年中，asml实验室阶段的euv光刻机械每小时只能解决10个芯片。 很明显，这无法满足台湾积体电路制造、三星、 英特尔和其他芯片制造商的“胃口”。 不仅如此，高昂的价格超出了人们的想象！ 市场不接受这样的光刻设备！

其次，荷兰asml开发的euv光刻机勉强满足商业要求，3400b的第二代euv 光刻机每小时可以加工125枚晶片！ 但是到了2019年，三代机3400c真的跨越了，各代机的水平没有提高多少，研发费用也没有了！

最后，荷兰asml计划在2021年发布3400d。 据说性能只有18%。 特别是荷兰的asml没有那么强大，生产效率很低。 甚至最近去世的三星， 李健熙的儿子李在镕也在荷兰！ asml总部正在囤积商品。

荷兰的asml为什么要推出新的光刻机械呢？ 荷兰的asml忙于发售新机器是有理由的，但是性能不高！ 芯片概念。

我们的光刻机还在努力，但不弱。

首先，是对我们国内光刻机布局的控诉！ 毕竟中科院实力很强，荷兰的asml只是个企业！ 我们只能开发新机器来维持市场地位！

其次是光刻设备的技术。 其实，光刻设备最重要的是光源。 euv光刻机光源13.5nm，成熟的duv 光刻机最先采用的是193nm。 波长越短，工艺水平越高，物镜的数量也是影响因素之一。 数值越高，光刻装置提供的加工水平越高，这些物镜将被手工研磨。

事实上，荷兰的asml也是组装制造商，没有什么技术。 光源技术主要由美国、提供、物镜由蔡司、德国提供

最后是中科院的实力。 不久中科院正式宣布了光刻机的配置，但是其他人的技术是一流的，很多。 中科院微电子研究所开发的重要图形分选技术也比较有效地提高了光刻机的分辨率，提高了技术水平！ 这是荷兰asml无法比拟的，技术优先于荷兰asml！

中国光刻加油！

荷兰的asml企业有大小问题，但是asml确实垄断了整个高端光刻机市场，必须承认别人比我们强！ 技术上只有一个，一次也没有像脸一样的东西！ 我知道做科学研究很重要！

荷兰的光刻机没有想象中那么强大，我们的光刻机还在努力，但并不弱。

荷兰的asml知道自己的问题，所以希望不断推出新的光刻机械，保持领先地位。 我们也应该知道。 我们应该解决处理芯片困难的问题。